ASML的EUV光刻机为何如此耗电

众所周知，全球能制造EUV光刻机的只有ASML一家，芯片厂商别无选择。EUV光刻机不仅价格高昂，更是耗电大户。据报道，一台输出250W功率的EUV光刻机，一年耗电可达3万度，要是有100台，那耗电量简直惊人。其根本原因在于能量转换效率极低，目前ASML的EUV整体能源转换效率仅0.02%左右。

EUV光刻机能量转换效率低的原因

为何EUV光刻机能量转换效率这么低呢？主要是在EUV光源获取环节，能量损耗太大。ASML获取EUV光源，采用高功率二氧化碳激光脉冲照射直径30微米的锡滴液靶材，单个脉冲峰值功率高达数兆瓦。在光束持续作用下，锡珠激发成等离子体释放极紫外线，再经物镜系统收集形成有方向性的光线，但中间有损耗，最终转换效率低至0.02%左右。

中国EUV技术取得重大突破

这些年众多机构都在研究提高转换效率或采用新方式生产13.5nm光源。近日，中国上海光机所的林楠团队研发出“固体激光器”技术路线，成功产生13.5nm波长的EUV光源，且能量转换效率相比ASML技术直接翻倍，相当于功耗降低50%。这意味着若EUV光刻机采用此技术，耗电量将大大降低，对芯片制造企业来说是福音。虽然技术落地还有很长路要走，但中国EUV光刻机又近了一步，未来说不定能造出比ASML更好的产品。